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    徠卡 EM RES102多功能離子減薄儀

    更新時間:2022-09-14

    簡要描述:

    徠卡 EM RES102多功能離子減薄儀是一款*的離子束研磨設備,帶有兩個鞍形場離子源,離子束能量可調,以獲得Z佳離子研磨結果。這一款獨立的桌面型設備集 TEM,SEM和LM樣品制備功能于一體,這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨功能外,徠卡EM RES102還可用于低能量極溫和的離子束研磨過程。

    徠卡 EM RES102多功能離子減薄儀 

    使用徠卡 EM RES102,使您的樣品具備高水平的靈活性,具有輕薄、清潔、拋光、切割的坡度和結構。*的離子束研磨系統結合了在一個單工作臺面單元上制備TEM、SEM和LM樣品的特點。

    各種樣品架可以進行多元化應用。除了高能量的離子銑工藝,徠卡EM RES102也可適于采用低離子能量處理非常柔軟的樣本。

     

    徠卡 EM RES102多功能離子減薄儀主要優勢

     

     

    *的解決方案

    Leica EMRES102是一款*的離子束研磨設備,帶有兩個鞍形場離子源,離子束能量可調, 以獲得離子研磨結果。這一款獨立的桌面型設備集 TEM,SEM和LM樣品制備功能于 一體,這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨功能外,徠卡EM RES102還可 用于低能量極溫和的離子束研磨過程。

    TEM 樣品

    • 單面或雙面離子束研磨適用于材料的離子束減薄過程。鞍形 場離子源可獲得很大的電子束透明薄區。

    • 程序化控制的離子入射角度變化,適用于完成特殊的樣品制 備目的,例如FIB樣品清潔,以減少無定形非晶層。

    SEM 或 LM 樣品

    • 離子束拋光大拋光區域可達25mm。

    離子束清潔適用于對樣品表面污染層或機械拋光后表面產 生的涂抹層進行清潔。

    • 樣品表面襯度增強作用,可替代化學刻蝕作用。

    • 35°斜坡切割用于制備多層樣品的截面。

    • 90°斜坡切割用于制備復合結構的半導體樣品或組裝器件, 這種方式所需的機械預加工工作少 。

     

    主要特點

    • 一臺桌面型設備,集TEM,SEM和LM樣品制備功能于一體

    • 通過局域網實現對離子研磨過程遠程遙控

    • 離子束拋光區域很大,可達25mm

    • 離子研磨過程參數全電腦控制

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